鉅大鋰電 | 點(diǎn)擊量:0次 | 2019年03月27日
制備納米硅薄膜太陽(yáng)能電池及研究特性
隨著工業(yè)化及城鎮(zhèn)化步伐的加快,礦物質(zhì)等傳統(tǒng)能源日趨短缺,以至不能滿足人們生活及生產(chǎn)的需要,因此可再生能源備受關(guān)注。由于太陽(yáng)能是一種取之不盡、用之不竭的無污染的清潔能源,世界各國(guó)政府把研究與開發(fā)太陽(yáng)能作為可持續(xù)發(fā)展能源的戰(zhàn)略決策,其中美國(guó)、日本等發(fā)達(dá)國(guó)家及中國(guó)等發(fā)展中國(guó)家均制定了光伏技術(shù)發(fā)展計(jì)劃,把光伏發(fā)電作為人類未來能源的希望。自1954年美國(guó)貝爾實(shí)驗(yàn)室制備了第1塊6%硅太陽(yáng)電池及20世紀(jì)70中東石油危機(jī)以來,硅太陽(yáng)電池的研究進(jìn)入了一個(gè)格外備受關(guān)注的時(shí)代。
單、多晶體硅太陽(yáng)能電池光電轉(zhuǎn)化效率高,它們?cè)趯?shí)驗(yàn)室的最高轉(zhuǎn)換效率分別是24.7%和20.3%,雖然它們的效率高,但是其原材料單、多晶體硅片制備工藝復(fù)雜成本高,吸收太陽(yáng)光譜,理論上來說只需要晶體硅片厚度約100m,遠(yuǎn)低于現(xiàn)行工業(yè)化的約180pm電池片的厚度,故造成了不必要的浪費(fèi),基于成本考慮,人們想到了制備價(jià)格低廉及工藝簡(jiǎn)單的薄膜太陽(yáng)能電池,其優(yōu)點(diǎn)是原材料和電池同時(shí)在實(shí)驗(yàn)儀器中完成,不像晶體硅電池需要兩個(gè)大環(huán)節(jié),即原材料硅片的制備及晶體硅電池的制備等兩大過程,這大大節(jié)約了原材料及人工成本。目前,硅基薄膜太陽(yáng)能電池有3種類型:微晶硅薄膜太陽(yáng)能電池、非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池及納米硅薄膜太陽(yáng)能電池。
制備,具備硅基薄膜太陽(yáng)電池優(yōu)點(diǎn)一制備工藝簡(jiǎn)單、便于大面積連續(xù)化生產(chǎn),是一種間接帶隙半導(dǎo)體材料,穩(wěn)定性能高,在可見光部分的吸收系數(shù)小于非晶硅,這意味著吸收相同的太陽(yáng)光,微晶硅需要的原材料多H,如沒有H的鈍化,電子輸運(yùn)能力將受到晶體邊界的阻擋作用0.它包含了非晶硅的優(yōu)點(diǎn),沒有光致衰減效應(yīng),更敏感的紅光響應(yīng)光譜,由非晶硅的700nm增加到微晶硅的1100nm1,。非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池由美國(guó)的Carlson和Wronski在1976年首次制備,非晶體硅薄膜光吸收系數(shù)大,較吸收系數(shù)小的其他薄膜吸收相同的太陽(yáng)光更節(jié)省材料,使用廉價(jià)襯底材料如玻璃、不銹鋼和塑料,制備工藝簡(jiǎn)單,可實(shí)現(xiàn)大面積及連續(xù)生產(chǎn),降低成本;但是非晶體硅薄膜存在光致衰減效應(yīng)(Staebler~Wronski)H,薄膜沉積速率慢,影響大規(guī)模生產(chǎn)5.納米硅薄膜首次被Veprek小組于1986年報(bào)道以來63,國(guó)內(nèi)外對(duì)于納米硅薄膜材料、電池制備及性能研究取得了巨大的進(jìn)步。納米薄膜材料具有電導(dǎo)率高、電導(dǎo)激活能低、光熱穩(wěn)定性好、光吸收能力強(qiáng)、光學(xué)能隙寬化、工藝制備簡(jiǎn)單、量子尺寸效應(yīng)等優(yōu)點(diǎn)673.當(dāng)晶體的尺寸減小到納米量級(jí)時(shí),由于大表體積比,其物理性質(zhì)不同于塊體材料,對(duì)于塊材內(nèi)部原子決定物質(zhì)的性質(zhì),而納米材料則表面原子決定物質(zhì)的性質(zhì)°8.因此納米薄膜太陽(yáng)電池的物理和化學(xué)性質(zhì)將有奇特的效果。目前國(guó)內(nèi)、國(guó)際大批科學(xué)工作者正在投入到納米硅薄膜太陽(yáng)電池的研究中。例如詳細(xì)闡述了異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)電池的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積的制備方法及沉積工藝參數(shù)等外界條件對(duì)電池的光學(xué)、電學(xué)性質(zhì)的影響。但是很少有像關(guān)于研究非晶和微晶硅電池一樣,比較全面的闡述納米硅薄膜太陽(yáng)電池的制備理論及影響薄膜電池光電轉(zhuǎn)換效率的一般物理機(jī)制,因此關(guān)于這樣系統(tǒng)的研究很有科學(xué)指導(dǎo)意義。
1硅納米薄膜太陽(yáng)能電池的制備及沉積理論1.1制備方法制備納米薄膜的方法有:等離子體增強(qiáng)化學(xué)61,熱絲化學(xué)氣相沉積(HotWire見的沉積技術(shù)一等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積。
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積是利用反應(yīng)氣體通過射頻電場(chǎng)產(chǎn)生輝光放電形成等離子體,以增強(qiáng)化學(xué)反應(yīng),從而降低反應(yīng)溫度,在低溫下生長(zhǎng)氮化硅、氧化硅、非晶硅、納米硅以及磷硅玻璃等半導(dǎo)體器件表面保護(hù)膜的一種新技術(shù)。
1.2沉積理論及成核理論,具體如下:高氫稀釋的SiH4生長(zhǎng)硅納米薄膜的熱力學(xué)反應(yīng)方程式為M:其中,表示正、逆向化學(xué)反應(yīng)速率,正向?yàn)闅庀嘀凉滔嗟某聊み^程,逆向?yàn)榛瘜W(xué)反應(yīng)的逆過程亦叫腐蝕過程。這個(gè)過程就是等離子體中H基,將薄膜表面上生成的弱Si-Si鍵破壞作用的過程。納米薄膜的厚度及質(zhì)量?jī)?yōu)劣主要決定于這2個(gè)反應(yīng)過程。
當(dāng)氣態(tài)SiHx遇到襯底后,將會(huì)在襯底表面輸運(yùn),如遇到個(gè)適當(dāng)?shù)母顸c(diǎn),硅晶粒將會(huì)在其上積累并形成Si-Si鍵,隨著反應(yīng)的不斷進(jìn)行,硅晶核將不斷的長(zhǎng)大,若在成核的過程中,出現(xiàn)弱Si-Si鍵,則H基將會(huì)腐蝕此鍵合狀態(tài),直至停止,經(jīng)過這樣一系列過程則硅納米晶體最終形成M.2H稀釋濃度對(duì)硅納米薄膜太陽(yáng)電池性能的影響硅納米薄膜通常通過H2與SiH4的比例來制備的,它可以鈍化懸掛鍵,對(duì)薄膜有腐蝕等作用,H的濃度是影響硅薄膜結(jié)晶和太陽(yáng)電池性能的一個(gè)重要參數(shù)。如,14研究了不同本征層氫稀釋度SH=H2/(H2+SiH4+PH3)與太陽(yáng)能電池性能參數(shù)的關(guān)系,文章指出,隨著緩沖層氫稀釋度的增加,太陽(yáng)能電池的開路電壓減少,短路電流增加較快,但當(dāng)約Sh>97%時(shí),短路電流迅速減??;填充因子增加不明顯,電池效率增加,但約Sh>97%時(shí),有一個(gè)突然的減小。他們認(rèn)為原因可能是緩沖層氫稀釋度的增加,摻雜效率提高,費(fèi)米能級(jí)提高,但能隙寬度減小,兩者綜合效果使開路電壓減小;氫稀釋度的增加,晶粒變大,載流子遷移率增加,改善上電極對(duì)載流子的收集,提高短路電流,但過量的H稀釋度,增加腐蝕作用,形成缺陷態(tài),增加復(fù)合,減小短路電流。9也做出了與上述相似的結(jié)論。14還研究了,不同i層H稀釋度與太陽(yáng)能電池量子效率的關(guān)系,文章指出隨著氫稀釋度增加,短波段的吸收增加,短路電流增加,這個(gè)結(jié)論與上面的結(jié)論相互統(tǒng)如。
3沉積氣壓對(duì)薄膜性能的影響薄膜性能的關(guān)系,文章指出隨著沉積氣壓的增加,硅納米薄膜結(jié)晶程度不斷增加,如表1和XRD的3個(gè)峰位角強(qiáng)度的變化就可以知道。這個(gè)結(jié)論,與7的拉曼光譜測(cè)試結(jié)果是一致的,如。
表1薄膜的氣壓變化參數(shù)樣品號(hào)工作氣壓/Pa4襯底溫度對(duì)薄膜性能的影響關(guān)系,如表2.文章指出,隨著襯底溫度的增加,薄膜的帶隙寬度不斷減小,氫氣含量不斷增加,暗電導(dǎo)和光電導(dǎo)增加。這種材料可以應(yīng)用于薄膜太陽(yáng)電池本征吸收層。
表2納米硅和有普通帶寬的氫化非晶硅材料的光電特性5RF功率密度/mW室氣壓/Torr襯底溫度/尤5透明導(dǎo)電薄膜在納米電池上的應(yīng)用應(yīng)用于薄膜太陽(yáng)能電池的透明導(dǎo)電薄膜,具有較低的電阻率、對(duì)可見光具有相當(dāng)高的透光性、具有對(duì)環(huán)境的穩(wěn)定性等特點(diǎn)。這些材料有摻銦氧化錫(ITO)、摻銦氧化鋅(IZO)、摻鋁氧化鋅(AZO)、摻氟氧化錫(FTO),摻銻氧化錫(ATO)等。
對(duì)于常規(guī)透明導(dǎo)電薄膜(TCO)如:ITO、AZO在近紅外區(qū)有自由載流子被吸收,限制了納米硅太陽(yáng)能電池長(zhǎng)波響應(yīng)M,近來有學(xué)者研究了應(yīng)用于薄膜太陽(yáng)電池中的摻鉬氧化銦(IMO)透明導(dǎo)電薄膜。具有較好的光學(xué)特性,如。
ITO和IMO薄膜透光光譜比較圖從可以看出,較一般的ITO透明導(dǎo)電薄膜,IMO薄膜具有更寬的透光波段范圍,ITO在1750nm以后的波段范圍幾乎沒有透光,而IMO薄膜則透光率很高,具有良好的光學(xué)特性。這種用這樣薄膜做成的納米硅太陽(yáng)能電池具有較好的量子效率6.6小結(jié)本文綜述了太陽(yáng)能電池的發(fā)展歷程,闡述了單晶體硅電池、多晶體硅電池、微晶硅電池、薄膜硅電池的性質(zhì)和特點(diǎn);闡述了納米硅薄膜太陽(yáng)能電池的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積制備及沉積理論;論證了H稀釋濃度對(duì)硅納米薄膜太陽(yáng)能電池性能的影響,隨著緩沖層氫稀釋度的增加,太陽(yáng)能電池的開路電壓減少,短路電流增加較快;闡述了沉積氣壓和襯底溫度對(duì)薄膜性能的影響,沉積氣壓增加,硅納米薄膜結(jié)晶程度不斷增加,襯底溫度增加,薄膜的帶隙寬度不斷減小,暗電導(dǎo)和光電導(dǎo)增加;最后講述了透明導(dǎo)電薄膜在薄膜太陽(yáng)能電池中的應(yīng)用情況及光學(xué)性質(zhì),關(guān)于沉積條件對(duì)薄膜性能影響我們還在進(jìn)一步的研究。